半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
工作题材
该厂家隶属于安徽省杭州市,重要从业舒适半导体技术治疗器的二极管封装測試,日排污废排水量约200吨。因为产量期间中施用多个普通机械药物,废液材质很复杂,具有刺激性高溶液浓度铜、镍等高价属与树酯树酯、光刻胶等有机的污染源物。厂家原本的治疗配制不可提供最新信息排污要求,肯定需要升到改革。
生产废水成分表及源头
电渡污水
:源头于IC芯片引脚镀膜多种工序,带有铜、镍、锡等高价属化合物,pH值上下波动大。
无机废气
:注意出于装封胶凝固后、光刻工艺设备,具有环氧漆树脂胶、异丙醇、甲苯等可挥发萃取剂。
酸性废渣
:生产于晶圆难以清理和蚀刻工艺技术,包含氢脱色钠、硫酸钠、氢脱色钠等。
进行处理工序方法
预加工环节
碱酸与
:按照投加平台上下调整pH至6-9,避免出现后期的工作设施设备蚀化。
混疑结晶
:添加PAC(配位聚氯化铝)和PAM(PP酰胺),我们要除透明桌面物和大部分血本属。
主导处里分阶段
高等级防氧化
:通过Fenton化学制剂(H₂O₂+Fe²⁺)拆分难挥发化学物质物,COD祛除率达70%以上的。
膜进行过滤
:反构建膜(UF)+反构建(RO)搭档制作工艺,进每一步公款私存巨资属和融解性生物碳物。
淬硬层外理时间段
阳离子互相交换
:专业涉及铜、镍正离子,确定出水出水高价属浓度最低0.5mg/L。
活性酶类炭吸
:对于终究有效保障了,洗去残存进样器巧妙物。
不可能结果
经治疗后,有水出水体质量符合《光学工农业水感染物尾气排放细则细则》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,造纸废水处理率加快至60%,第一年降低用纯净水成本费约8070万。