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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

品牌经验 本活动为于长江三角洲型中北部某发达省级半导体材料服务业园区,品牌最主要的研发8屏幕尺寸和12屏幕尺寸晶圆,日产尼桑量做到2万片。跟随着的生产作用的提升,现有的废渣治理系统化已尚未充分考虑优质必须,急用发展变革。活动总股权投资约1五百万元,开发治理作用为300吨/日,于2023年完成投用。 废污水的成分及原因 该公司企业晶圆小学划片程序形成的电镀废水具体涉及到下列材料: 裁割环节中运行的粉磨液剩余的物,包括有效成分为二被氧化硅粒子、外表可溶性剂和可挥发获取剂 晶圆外面清洁引起的含氟工业废水,氟阳离子氧浓度在80-120mg/L 少量的天价属亚铁离子如铜、镍等,在于于切平台破损 有机化学稀释剂杂质,涵盖异丙醇、异丙醇等 pH值冲击较高,常见在4-10之前 加工处理方法工作流程 造成废污水属性,设汁运用"化学预外理+生物化外理+深入外理"的乐队组合鑫霖环保: 设定池 :教育均衡发展水体质量容量,设定pH百度监测技术和定时加量系统化 水泥混凝土结晶 :加药系统PAC和PAM,取除漂浮物和悬浊液产物 气浮第一单元 :用于溶气气浮工艺流程进一部删去狗狗细小颗粒物和的部分生物碳物 生物化学办理 :用到MBR膜生物体反响器,废水质量浓度保护在8000-10000mg/L 深度.整理 :生物炭离心分离+反侵入加工过程,保障有水出合格 飞灰净化处理 :板框设备脱水现象,污水含水分率降落到60%下面的 补救结果 控制系统保持稳定正常运行后,水流水环境充分达成《电子器材化工业水空气有机废气废气量标准化》(GB39731-2020)尤其是废气量规定值特殊要求: COD<30mg/L 氟阳离子<5mg/L 透明桌面物<10mg/L 高价属相关完成指标均底于标准值 工程项目第一年可缩减空气污染源排卸量约COD 32吨、氟化物8.5吨,工业废水处理水率实现75%以下,为中小型企业控制成本煤气费其他支出约110万元/年。

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