某半导体材料集成块研发厂在晶圆生产流程中，适用硅烷开始硅外延性的生长，氮氧化合物洗涤剂塔存在高溶液浓度含硅电镀化工废水。电镀化工废水兼具pH价格波动大（2-11）、硅水分含量高的特色，传统式外理的办法易显示硅垢梗塞原因。 废水处理方法组成及因素 废气核心有效成分为： 降解性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 磷酸/氢脱色钠 ：洗衣机清洗塔酸性洗衣机清洗液农药残留 粉末硅 ：nm级SiO₂电解质溶液 痕量砷 ：奶茶原料溶物带进去 清理加工制作工艺 程序 研发主要包括"多级采和+膜过虑+减压蒸馏析出"制作工艺： 一层采和 ：用CaO调高pH至4-5，形成硅酸钙结晶，硅除去率60%。 一级中合 ：加Na₂CO₃将pH增强至9，加强组织领导一个脚印放置结余硅，串连用镁剂除砷。 反渗透膜系统化 ：0.02μm瓷质膜滤水纳米技术级硅颗料，通量不稳定性在80LMH。 MVR蒸发掉器 ：沉淀高盐废液，晶体出Na₂SO₄副类产品，水循环率超90%。 终极使用效果 总硅从1500mg/L降到5mg/L如下 砷含量从0.8mg/L降到0.01mg/L 程序无结渣启动低于2年 第二年收废氢氧化钾钠多晶体约800吨