某半导体设备引发工厂因晶圆除污工步引发含氨污水，用水量200吨/天。污水内除挥发酚外还所含氟化物和微量分析天价属，治理等级大。当地政府减排标准单位标准要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水组分及渠道 晶圆清晰化工废水（主要的源于）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺焦化废水：含轻微铜、镍等天价属，pH值振幅大 CMP研磨抛光废水处理：含硅科粒及高锰酸盐指数 外理工序标准流程 所采用"化学式积淀+膜剥离 +折点氯化"结构技术： 预除理 ：添加CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透膜系统软件 ：出掉0.01μm以上的顆粒物 反构建原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 ：将挥发酚精提至1000mg/L以下 折点氯化 ：小于掌握氯加药量，将高锰酸盐指数转换成为惰性气体 正离子交流 ：保障措施巨资属合格 从而特效 高锰酸盐指数固定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属水分含量低过监测限 水使用率达75% 活性污泥行成量缩减40%