半导体高端封测废水怎么处理方法|半导体高端封测废水处理案例
半导体技术高级首测配套工程涉重废渣——MVR禁止再循环零排业务
的项目题材
半导体器件器件高品质公测好该项目,占比150万m³/天,是首份半导体器件器件公测智能化涉重工业化工废水零排好该项目。公测环节的镀镍、镀铜、引线框架结构刷洗会制造含镍含铜工业化工废水,工业园区需求"无尾水外排",产水完全回收利用于产线。
水体功能与问题
焦化废水以含镍为之主要(氧化还原电位10–100毫克/升),伴轻微铜、锌,pH下降大(2–12),有光刻胶无残留的少量的可挥发物。公测厂田径场紧,耍求操作措施占地赔偿小;零排预兆着浓水无法土石方工程越多,都要原生蒸馏凝结前馈。
处里工序风格
整体布局走"分质获取 → 预处置除杂 → 化学上沉积除镍 → 过滤清洁 → UF+二级RO → MVR禁止无限循环蒸发掉 → 空调蒸发器水回收利用":
含镍线先调pH到10–11,加药系统氢阳极氧化反应钠转成Ni(OH)₂乳浊液,另加混炼橡胶钠广度捕集器残渣镍(混炼橡胶镍Ksp比氢阳极氧化反应镍更小,里能镍压到0.1毫克/升下述);
沉积出液经多导电介质吸附+保卫吸附后进UF,再进一級RO,产水立即回产线擦拭;
RO浓水(含盐+多余巨资属)进MVR强硬性要求不断循坏挥发器,强硬性要求不断循坏能扛高含盐水垢,挥发器有带网上洗,更易堵;
MVR冷疑水换回中水回用鱼池,多效蒸发残液委外焚烧炉或做为垃圾处里,一个生产区无液太外排。
的关键的设备优点和缺点原因分析
MVR二次间歇相信常规降膜减压蒸馏,间歇流体密度高、制热面不适宜结镍盐/碳酸盐垢,适宜公测这类"的水量较小但水环境杂"的场所;分离式化撬装制作土地征用比老式减压蒸馏塘+多效减压蒸馏策划方案小60%大于;废气侧配建生物技术滤池,把的调节池和废水间的废气收录后光降解成CO₂和水,减少公测厂紧靠办公场所区的怪味投述。
外理疗效与竞争力
有水出镍≤0.1毫克/升、铜≤0.1毫克/升,远远高于《塑胶电镀生态破坏物摆放要求》表三;所有 150万立方/天产水回收利用于首测产线洗涤,代用等量剥好水;危废处理(减压蒸馏残液+厌氧颗粒污泥)量比传统艺术"奠定+摆放"形式减约70%。对富士康侧,首测大型项目环保性分级管理卡点打伤通;